大功率半導體激光芯片清洗
                
            
                
                
                
	 
                

                
	為保證半導體器件高可靠性、穩定性和使用的壽命，提升半導體產品成品率，避免污染物污染而造成電路失效，需要對半導芯片上的灰塵等殘留物清洗。
                

                
	 
                

                
	目前普遍使用的是液態二氧化碳清洗工藝，通過液態二氧化碳的低溫特性，可以高效清洗大功率半導體芯片上的灰塵。
                

                
	
                

                
	 
                

                
	 
                

	
                
		為保
                
	
                
		 
                
	
                
		 
                
	
                
		證半導體器件高可靠性、穩定性和使用的壽命，提升半導體產品成品率，避免污染物污染而造成電路失效，需要對半導芯片上的灰塵等殘留物清洗。
                
	
                
		 
                
	
                
		目前普遍使用的是液態二氧化碳清洗工藝，通過液態二氧化碳的低溫特性，可以高效清洗大功率半導體芯片上的灰塵。